今天芯片巨頭英特爾宣布，已開始組裝阿斯麥（ASML）的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機(jī)，并稱這是其超越競爭對手的重要一步。
去年12月，阿斯麥確認(rèn)向英特爾交付首臺(tái)高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)，這臺(tái)機(jī)器的售價(jià)高達(dá)3.5億歐元（約合27億元人民幣）。
英特爾光刻主管馬克·菲利普斯表示：“我們在決定購買這些設(shè)備時(shí)就已經(jīng)認(rèn)可了它們的價(jià)格。如果我們不認(rèn)為這些設(shè)備物有所值，我們根本不會(huì)采購�！�
此前英特爾CEO基辛格曾表示，該設(shè)備將會(huì)被應(yīng)用于1.8nm以下的挑戰(zhàn)。
除了英特爾外，臺(tái)積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這款機(jī)器，但由于該設(shè)備的運(yùn)輸和安裝可能需要長達(dá)六個(gè)月的時(shí)間，因此英特爾此舉已經(jīng)領(lǐng)先了對手至少半年。
而英特爾決定要率先采用高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)也并非偶然。
英特爾雖曾參與開發(fā)極紫外光刻技術(shù)，但在開始使用阿斯麥?zhǔn)卓顦O紫外光刻機(jī)上卻晚于其競爭對手臺(tái)積電，基辛格也承認(rèn)，這是一個(gè)嚴(yán)重的失誤。
菲利普斯也表示：“現(xiàn)在我們已經(jīng)有了期待已久的新一代極紫外光刻機(jī)，我們不想再犯過去的錯(cuò)誤。”
